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알루미늄의 산화피막의 구조와 성질
Structure and property of oxide films formed on aluminum

등록 : 2008.09.09 ⋅ 33회 인용

출처 : 표면과학, 9권 9호 1988년, 일본어 7 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.10
알루미늄 표면에 생성하는 전형적인 산화물피막의 구조와 성질에 관하여 설명
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  • 염화니켈 스트라이크, 은도금 스트라이크, 은도금을 한 소형전자부품의 도금라인에서, 니켈 스크라이크는 고니켈을 함유하고 염화물이 낮은욕으로, 은도그욕은 은과 시안의 ...
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