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무전해 니켈 석출의 억제에 관련된 탈륨 및 납의 저전위 석출의 방사성 추적 및 전기화학 연구
Radiotracer and Electrochemical Studies of the Underpotential Deposition of Thallium and Lead in Relation to the Inhibition of Electroless Nickel Deposition

등록 : 2022.02.10 ⋅ 6회 인용

출처 : 전기화학, 46권 7호 1978년, 영어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.11
무전해 니켈 도금욕에서 금속성 혼합의 억제를 설명하기위한 시도에서, 소재상에 탈륨 또는 납의 첨가제 석출은 착화제를 함유하는 알칼리성 용액에서의 전기 화학적 방법을 통해 연구하였다.
  • 무전해 니켈도금액에 로단 또는 로단의 유도체를 첨가하여 도금액의 안정성을 반영구적으로 하는 도금액
  • 착화제 · Complexing agent 금속이온과 배위 공유를 하는 모든 [리간드]를 가진 물질을 말한다. 참고 [킬레이트] 착화화학 입문, 실무표면기술, 18권 6호 1971년,
  • 니켈도금에 대한 화학적인 간단한 서술
  • 과전류식 두께측정기로 세라믹상의 구리도금막을 측정할대, 도금액의 종류및 도금조건에 의한 피막의 전류율이 변화하여, 기타의 측정방법과 일치하지 않을때가 있어, 그 대...
  • 기능성 및 장식용 마감재를 생산하기 위한 표면 도금 기술로서 무전해도금의 적용은 인쇄회로 기판에 대한 요구 사항이 증가하고 다양한 용도로 플라스틱이 널리 사용됨에 ...