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헐셀을 사용하여 실리콘에 대한 전기도금의 전류 밀도의 시뮬레이션
Simulation of Current Density for Electroplating on Silicon Using a Hull Cell

등록 2022.02.22 ⋅ 56회 인용

출처 COMSOL, 2012년, 영어 7 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.23
전착은 다른 피막 방법보다 큰 장점이 있다. 대기압과 실온에서 전착이 가능하여 비교적 저렴한 장비가 필요하다. 그러나 전기도금 시 금속층 품질에 영향을 줄 수 있는 몇 가지 매개변수가 있다. 음극에 대한 전류 밀도 분포는 일반적으로 가장 큰 관심을 받는 부분이다. 헐셀은 양극에 대해 기울어진 음극이 있는 소형 전...
  • 알루미늄이 양극산화조에서 처리되면 알루미늄 샘플에 줄열이 발생한다. 양극산화욕이 교반되지 않을때 줄열은 양극산화욕의 자연대류에 의해 확산된다. 그리고 이 열은 벌...
  • 거의 모든 도금된 금속은 결정질이므로 원자가 격자라고하는 규칙적인 3차원 패턴으로 배열된다. 세가지 가장 중요한 격자는 면중심 입방체 (fcc), 몸중심 입방체 (bcc) 및 ...
  • 알루미늄 휠 도금에 대한 관심이 급속도로 증가하고 있으므로, 저자는 A356 알루미늄 합금에 징케이트 처리한 것에 전기니켈 도금을 한 각 공정에 대하여 일련의 금속현미경...
  • 각종금속에서의 펄스 파라미터와의 관련에 있어서 펄스도금법의 응용을 해설
  • 크롬 부동태의 대안으로 Elisha 기술은 6가크롬의 대체물로 사용할수 있는 실리카 전착공정을 개발했다. 그러나 Elisha가 개발한 공정은 견고성이 부족하여 단독도금으로 사...