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헐셀 도금 시험
Hull Cell Plating Tests

등록 : 2022.02.22 ⋅ 59회 인용

출처 : Atotech, 04/30/04-T1271, 영어 23 쪽

분류 : 해설, 교재

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.03.03
Hull Cell (미국 특허 번호 2,149,344) 은 일정 전류 밀도 범위에 걸쳐 도금된 전착물을 생성하도록 설계된 소형 테스트 셀이다. 석출물은 도금조의 상태 (즉, 주요 성분, 첨가제 및 불순물의 농도) 에 따라 다르다. Hull Cell은 다양한 화학 성분, 피복력 (침전물이 생성되는 최저 전류 밀도) 을 결정하고, 평균 음극 효율,...
  • X-선회절 시험으로 박막의 구조를 조사하였고, 분극실험을 통해 도금시간, 용액, 전류밀도 그리고 pH 등에 따른 부식특성의 변화를 비교 분석 함으로써 내식성 향상을 위한 ...
  • 흑색도금은 반사방지 (anti-glare 성)과 광 선택흡수, 각종제품의 블랙 지향의 고조 등에서 수요가 확대하고 있다. 도금법에 흑색피막을 얻기 위해서는 단순한 금속 및 합금...
  • 알칼리성 수용액은 산화텔루륨 TeO2 의 용해도가 크며, 카드뮴 Cd(ii) 가 암모니아 착체를 형성한 수용액중에 안정하게 존재함에 착안하여, 전극액으로 암모니아-알칼리성 ...
  • 무전해니켈도금용액에 사용되는 주요 착화제에 따라 도금액의 온도와 pH를 변화시켜 석출속도및 금속표면에 석출되는 인 석출량과 표면저항 등 도금피막의 특성을 분석...
  • 질산은 Ag 이나 황산 카드뮴 수용액에서는 평골한 (치밀전착) 도금이 어려우며, 염화니켈이나 황산코발트의 수용액은 평골한 도금이 가능한 이유와 평골제나 광택제의 작용...