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알루미늄 합금의 알칼리 에칭 및 디스머팅 : Mg2Si 입자의 거동
Alkaline etching and desmutting of aluminium alloy : The behaviour of Mg2Si particles
저자
Zelong Jin1) Changrun Cai2) Teruo Hashimoto3) Yudie Yuan4) DaeHoon Kang⁵) John Hunter⁶) Xiaorong Zhou⁷)
기타
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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.28
AA5052 알루미늄 합금의 알칼리 에칭 및 디스머팅중 거칠기 구성 Mg2Si 입자의 거동을 전자 현미경을 사용하여 입자의 형태 및 거칠기 진화를 모니터링하여 조사했습니다. Mg(OH)2 및 SiO2 xH2O 하위층으로 구성된 에칭 제품 피막은 알칼리 에칭 동안 입자 표면에 형성되어 입자를 불활성으로 만든다. 질산에서 디스머팅하는...
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CT-3 is a water type anti-tarnish agent, which does not contain any organic solvent. This agent is not only used as a tarnish inhibitor for silver, but also a se...