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알루미늄 합금의 알칼리 에칭 및 디스머팅 : Mg2Si 입자의 거동
Alkaline etching and desmutting of aluminium alloy : The behaviour of Mg2Si particles
저자
:
Zelong Jin1) Changrun Cai2) Teruo Hashimoto3) Yudie Yuan4) DaeHoon Kang⁵) John Hunter⁶) Xiaorong Zhou⁷)
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자료 :
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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.28
AA5052 알루미늄 합금의 알칼리 에칭 및 디스머팅중 거칠기 구성 Mg2Si 입자의 거동을 전자 현미경을 사용하여 입자의 형태 및 거칠기 진화를 모니터링하여 조사했습니다. Mg(OH)2 및 SiO2 xH2O 하위층으로 구성된 에칭 제품 피막은 알칼리 에칭 동안 입자 표면에 형성되어 입자를 불활성으로 만든다. 질산에서 디스머팅하는...
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실리카의 이온흡착능에 착안하여, 수용액중에서 실리카 입자와 Cr 이온에 관하여, 양자간의 흡탈착거동을 검토하고, 실리카의 방식작용과의 관계에 관한 설명
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암모니아성 알칼리 용액에서 트리에탄올아민 과 붕산의 농도변화에 다른 도금피막 조성과의 관계와 생성된 피막의 현미경조직 결정성 경도및 내마멸성과의 관계를 조사
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은도금(두께 25 미크론)에 가끔 핏트가 발생합니다. 활성탄 처리나, 과산화수소처리, 과망간산처리는 하지 않았습니다. 원인은?
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상업적으로 새로운 무전해 Ni-B 도금을 개발하였다. 성공적인 니켈-붕소 Ni-B 피막과 나노크기의 다이아몬드 입자 (UDD-Ultra dispersive diamond) 를 첨가하여 피막의 경도...
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