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합성 석영소재 포토마스킹의 습식에칭의 적용
Wet Etching of Synthetic Quartz Substrate for Photomask Application

등록 2014.09.10 ⋅ 21회 인용

출처 표면기술, 55권 8호 2004년, 일어 6 쪽

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기타

合成石英基板フォトマスクへの湿式エッチングの適用

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.14
글라스 소재를 에칭시 노광광에 위상차를 가진 특수한 레벤손형 위상 시프트 기술중, 웨트 에칭에 의한 패턴 프로필의 형성제어가 불가능하여, 포토에칭을 사용한 첨단 포토 마스크제조의 현황에 관하여 소개하였다.
  • 무전해니켈도금시 니켈과의 합금으로 형성되는 인의 함량을 인위적으로 조절함으로써 니켈 금속층 내의 인의 함령에 따른 solderball 점착력을 알아보고, 인의 함량을 조절...
  • EDS
    에너지 분산형 분광분석 ^ Energy Dispersive Spectrometer EDS 는 Energy Dispersive Spectrometer 의 약자로 energy despersive x-ray dpectroscopy 라는 원소분석기를 말...
  • 철-합금 징케이트 도금액 매우 낮은 점도 매우 우수한 습윤 특성 습윤력이 우수하여 드래그 아웃 손실이 적음 매우 조밀하고 균일한 아연산염 층을 생성 비시안화 합금 징케...
  • 금속표면은 금속이 합금의 일부이거나 원소상태인 촉매 비귀금속의 콜로이드로 소재표면을 도금하는 것으로 구성된 무전해 (화학) 도금 공정에 의해 비전도성 또는 유전체 ...
  • 대량 생산이 가능한 고 전류밀도 영역의 염화물욕 아연도금 용액에서 첨가제 및 도금 조건에 따른 전착 특성과 결정구조에 대한 고찰을 통하여 이것들의 상호 연관성을 해석...