로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 Coating 80건

습식도금 자료분류

자료수 11087 건

추천글

Tag LIST

메탄설폰산 전해질에 대한 장식용 산성 구리도금욕 기반에 있어서 티오우레아 농도의 최적화
Optimisation of Thiourea Concentration in a Decorative Copper Plating Acid Bath Based on Methanesulfonic Electrolyte

등록 2022.06.14 ⋅ 67회 인용

출처 coatings, 12권 2020년, 영어 11 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

Lorenzo Fabbri1) Walter Giurlani2) Giulia Mencherin3) Antonio De Luca4) Maurizio Passapont⁵) Emanuele Piciollo⁶) Claudio Fontanesi⁷) Andrea Canesch⁸) Massimo Innocenti⁹)

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 ⋅ ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.01.05
핵 생성 및 성장 메커니즘에서 유기 첨가제로서의 티오요소의 역할은 구리 전착과 장식용 전기도금 및 패션 액세서리 산업을 위해 연구하였다. 도금욕은 알칼리성 시안화욕의 대안으로 메탄설폰산을 전해질로 사용하여 환경 및 생태학적 영향을 줄이도록 계획하였다. 0~90 ppm 범위의 광택제 농도로 볼타메트리 ...

연관글

  1. 연구문헌자료.. 박스-벤켄 설계를 이용한 Ni-Co-P 합금 코팅 성능에 대한 첨가제의 효과에 대한 연구
  2. 연구문헌자료.. 메탄설폰산욕에서 구리의 무전해 석출에 대한 녹색 복합화제의 효과
  3. 연구문헌자료.. 무전해 Ni 석출과 석출욕 안정성에 대한 안정제의 효과
  4. 연구문헌자료.. 벤질 알코올을 함유한 메탄설폰산 전해질로부터 Cu-Sn 합금의 전착
  5. 연구문헌자료.. Sn-Ag-Cu 3원계 합금 솔더 전착에 있어서 첨가제의 영향에 관한 연구
  6. 연구문헌자료.. 할로겐 및 메탄설폰산 전기주석 공정의 비교 연구
  7. 도금기술노트.. 에텐티오우레아
  8. 도금기술노트.. 메탄납도금불량
  9. 연구문헌자료.. 유기 계면활성제가 포함된 메탄설폰산욕에서 납-주석 합금의 전착
  10. 연구문헌자료.. 아연 도금 용액의 제어, 전기화학 기술에 의한 티오우레아 첨가제의 최적 농도 결정
  • 크로메이트 반응 ^ Chromate Reaction 6가 크로메이트 반응 Zinc dissolution Zn + 2H+ → Zn2+ + H2 Zn → Zn2+ + 2e- Hexavalent chromium reduction H2CrO4 + 2/3H2 → Cr(O...
  • 인쇄회로 기판 최종표면 처리는 구리회로를 보호하고 부품실장사이의 납땜성을 유지하는것이 목적이다. 이와 같은 목적으로 HASL, OSP, ENIG, ISn 등이 사용되고 있...
  • 전해산화법으로 V2O5 의 합성과, 전지거동이 화학합성 V2O5 과 다름을 알 목적으로, 4가의 바나듐인 황산바나딜 (VOSO4) 를 출발물질로하여, 전해산화에 의한 V2O5 의 합성...
  • 니켈-붕소 Ni-B 피막은 경도가 높고 내마모성이 높아 자동차, 항공 우주, 석유 화학, 섬유 및 전자 산업에 적합하다. 특성 (특히 부식거동) 의 추가 개선은 적용 범위를 확...
  • 붕불화욕중에 동이온이 25 g/l까지 되어, 함량이 반정도 될때까지 불용성 양극을 사용하려고 합니다. 사용가능 합니까?