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검색글 Antonio De Luca 1건
메탄설폰산 전해질에 대한 장식용 산성 구리도금욕 기반에 있어서 티오우레아 농도의 최적화
Optimisation of Thiourea Concentration in a Decorative Copper Plating Acid Bath Based on Methanesulfonic Electrolyte

등록 : 2022.06.14 ⋅ 48회 인용

출처 : coatings, 12권 2020년, 영어 11 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Lorenzo Fabbri1) Walter Giurlani2) Giulia Mencherin3) Antonio De Luca4) Maurizio Passapont⁵) Emanuele Piciollo⁶) Claudio Fontanesi⁷) Andrea Canesch⁸) Massimo Innocenti⁹)

기타 :

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.01.05
핵 생성 및 성장 메커니즘에서 유기 첨가제로서의 티오요소의 역할은 구리 전착과 장식용 전기도금 및 패션 액세서리 산업을 위해 연구하였다. 도금욕은 알칼리성 시안화욕의 대안으로 메탄설폰산을 전해질로 사용하여 환경 및 생태학적 영향을 줄이도록 계획하였다. 0~90 ppm 범위의 광택제 농도로 볼타메트리 ...
  • 코발트-철-니켈 CoFeNi 합금박막의 전해도금에 있어서 Fe 조성의 증가는 염화욕에서 보다 황산욕에서 바르게 증가하였다. 전류효율은 큰 변화가 보이지 않는 염화욕과 달리 ...
  • 금 도금액의 불량 대책 ^ Gold Plating Trouble shooting [금도금액관리|금도금액 관리] 참고 [금도금색상불량|금도금 색상불량] [금도금] Gold Plating Problems|1| 보충자...
  • 석출구리의 굴곡강도에 관하여 온도와 디피리딜의 첨가량의 영향을 계통적으로 검토하고, 석출물의 외관에 관하여 관찰 결과를 보고
  • 기계적 마무리는 알루미늄의 다양한 표면 질감을 제공하기 위해 사용될 수있다. 광택선택의 경우 표면 흠집, 롤 마크 및 다이 라인을 제거하기 위해 버핑이 필요하므로 표면...
  • 부식거동의 확인에 LSV를 이용하여 전극전위를 일정한 속도로 변화하고, 만들어진 전류를 측정하고, 만든 전류-전위 곡선에서 전극표면의 화학반응(부식반응)을 추측