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무전해 도금 공정용 양자 기계적 접근
Quantum mechanical approach for electroless plating process

등록 : 2022.06.15 ⋅ 33회 인용

출처 : Surface Engineering, 28권 10호 2012년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.06.19
무전해 니켈 도금 공정을 위한 촉진제로 p-tolyl thiourea 및 diphenyl thiourea를 사용하여 고속 무전해 니켈 도금욕을 개발하였다. 화합물의 가속 효과는 중량증가와 전기화학적 방법에 의해 측정되었다. 두 화합물 모두 철강 표면에 강하게 흡착하여 석출속도를 상당히 향상시켰다. 가속기의 흡착은 Langmuir 흡착 등온선...
  • 저자들이 개발한 광촉매 분말에 의한 도금폐수중의 COD 성분을 산화 분해 처리 조건, 유리 침 지체에 이산화 티타늄을 졸-겔법을 이용하여 고정화하는 방법 이산화 티타...
  • 위생 침지의 운영, 안전한 침지, 금속폐기물의 고정 (Fixation), 혹은 포장 (Capsule) 에 넣어 버리는 방법등이 있으나 이러한 것들은 비실용적이며 예상되는 금속 폐기물의...
  • 전자장비의 도금에서는 배선기판의 표면조화는 유전손실 특성이 저하 또한 도금막의 표면의 요철이 커지기 때문에 와이어본딩 성이나 광택 빛 반사가 높지등 문제가 생긴다....
  • 산화피막을 적극적으로 활용함에 따라, 작업수를 저감하여 도금작업에 요하는 작업시간을 단축하여 작업효율을 향상하는 도금방법 [金属材料のめっき方法] 일본특허 特願200...
  • 도금액을 수용하며, 그 도금액에 담겨진 제품의 표면에 도금이 행해지는 도금조; 상기 도금조에서 도금된 도금층의 일부를 전기화학적 방법에 의해 제거하는 에칭조; 상기 ...