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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 Tadao HAYASEI 1건
산성 황산구리욕에서 구리의 전착과 용해의 메커니즘 II. 염소 Cl 이온의 효과
Mechanism of the Electrodeposition and Dissolution of Copper in an Acid Copper Sulfate Bath II. Effect of Cl Ions

등록 : 2022.07.28 ⋅ 21회 인용

출처 : 전기화학, 51권 6호 1983년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.08.11
회전 링-디스크 전극 시스템을 사용하여 산성 황산구리욕의 넓은 분극 영역에 걸쳐 Cl 이온을 추가할 때 분극 전류 iD 및 링 전류 iR 에 의해 추정되는 반응 중간체의 거동의 변화를 조사하였다. iR 은 Cl- 이온이 존재하는 구리 표면에서 반응 중간체 (Cu) 의 농도에 해당하는 것으로 밝혀졌다. 구리 전착 및 용해의 단계적...