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경질 크롬 도금욕의 정화 - 조건과 요구
Purification of Hard Chromium Plating Baths—Options & Challenges

등록 2022.10.27 ⋅ 93회 인용

출처 Plating & Surface Finishing, Apr 2002, 영어 4 쪽

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.10.27
경질 크롬 도금욕을 처리하는 데 사용되는 두 가지 주요 전기화학 공정을 비교었다. 실험실 규모에서 얻은 결과로 제거율은 PCM 셀에서 약간 더 나은 반면 에너지 (시간전위)는 FCMP에서 더 낮은 것을 나타냈다. PCM 공정의 주요 단점은 음극액 pH의 증가와 그에 따른 침전으로 인한 슬러지 형성이다. 반면에 FCMP 셀에서 슬...
  • 최근 각종 표면 처리에 의한 부식방지, 미관의 향상의 다른 자성피막 형성, 내마모성 및 표면경도의 향상, 전기절연성 등의 기능ㅊ능력 부여로 더욱 확대 일로에 있다. 그래...
  • 알칼리 금속 탄산염 또는 중탄산염, 알칼리금속 티오시안산, 황 함유 화합물 및 선택적으로 습윤제 및 알칼리 금속 티오황산염을 포함하는 무전해구리 도금액 안정화용 조성물.
  • 6가크롬을 함유하지 않은 친환경 청백색 3가 크로메이트로 1액성으로 광택 크로메이트 피막을 얻을수 있다.
  • 선택성이 높고 감도가 높은 몇가지 비색 시약을 사용하였다. 2,2'- 비퀴놀린, 디에틸디티오 카바메이트, 에틸렌디아민 테트라아세틱산 (EDTA) 은 잘 알려져 있다. 이러한 민...
  • 다양한 형태와 인 함량을 가진 Ni-P 합금 피막의 전착을 보고한다.