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도금액중의 레벨러 농도 측정방법
Leveler measurement method in plating baths

등록 2008.09.18 ⋅ 70회 인용

출처 한국특허, 2007-0007395, 한글 11 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

저자

이사야마 야스시1) 우에야마 히로유키2) 가네코 히로유키3) 야마카와 준이츠4) 홍고 아키히사5) 기미즈카 료이치6) 마루야마 메구미7)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.15
반도체소재 등의 표면에 형성된 배선용 홈이나 구멍에 구리 등의 금속을 충전하는 데 사용하는 도금장치의 도금액 중의 레벨러 농도를 CV법 또는 CVS 법에 의해 측정한 도금액의 박리영역에서의 피크치 면적 (AR값) 에 의해 구하도록 한 것을 특징
  • 중붕소산소다 NaBH4 를 이용한 무전해니켈도금의 욕조성과 석출반응의 관계를 검토하기 위하여, 주석산염을 착화제로한 알칼리성 니켈도금욕의 욕조건과 니켈석출 ...
  • 새로운 루테늄 도금욕이 개발되어 높은 음극효율에서 광택 밀착성이며 기공이 없는 도금을 제공한다. 전착 루테늄은 경부하 전기접점 분야에서 상당한 잠재적인 응용이 가능...
  • 비밀글입니다.
  • 이책은 1940 년경부터 현재까지 공개된 기술문헌에서 추출한 세척 및 에칭 솔루션 모음이다. 게르마늄 및 실리콘 반도체 장치의 개발에 관여하면서 시작되었다. 세정, 제거,...
  • ● 납땝(Soldering)을 통한 부품실장. ● Au wire bonding ● Ni-P 층은 비정질 구조 (Amorphous)로 내마모성이 우수하다. ● 니켈층에 P(인)의 함유로 내식성이 우수함 ● Au의 ...