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크롬 도금용 전극
CHromium plating electroad

등록 : 2008.09.19 ⋅ 46회 인용

출처 : 일본특허, 2000-104199, 일본어 4 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 설비관련 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.07.26
3가크롬도금에 적합한 전극으로, 도전성 기본체상에 산화이리듐을 포함한 전극물층을 가지며, 전극물층의 표면에 가공질층이 실리콘 Si, 물리브덴 Mo, 티타늄 Ti, 탄탈룸 Ta, 지르코늄 Zr, 텅스텐 W 등의 소량과 하나 이상의 원소를 함유한 산화물로 형성된 3가크롬의 산화에 의한 6가크롬의 생성율이 없는 [[크...
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  • 디메틸설폰 (DMSO2)- 염화알루미늄 AlCl3 욕을 이용하여, 건조공기중의 알루미늄 Al 전착을 시도하였다. 디메틸설폰산욕은 방향족계 용매와 에텔계 용액를 이용하여 다...