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물 수용체 확산의 관찰을 통한 구리 전기화학 연마 기구의 연구
Study of Cu Electrochemical Polishing Mechanism With Observation of Water Acceptor Diffusion
저자
기타
ECP (electrochemical polishing)
자료
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자료요약
카테고리 : 연마/연삭 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.02.11
기존 및 새로운 전기화학 분석 방법을 사용하여 Cu 전기화학 연마의 메커니즘과 거동을 조사하였다. Cu 용해의 경우 연마 유무에 따라 LSV(linear scan voltammetry)와 SEM(scanning electron microscopy) 결과로 분류하였다. EIS(Electrochemical Impedance Spectroscopy) 결과는 이 두 경우의 주요 차이점이 저주파 영역에...
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주철에 처리된 무전해니켈인도금의 파막강도의 정량화, 피막강도에 있어서 인자의 영향에 관하여 검토
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POELE 를 첨가제로 사용한 황산산성 주석-비스무스 Sn-Bi 합금도금욕에서, 치밀하고 평골한 외관을 가진 Sn-Bi 합금피막의 석출과, 피막중 Sn 3 wt % Bi 도금피막을 만들기 ...
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농도가 낮은 3가 크롬욕을 사용한 복합 도금을 연구하였다. 일반적으로 6가 도금욕에서는 복합도금이 어렵지만, 3가 크롬욕에서는 다양한 종류의 입자가 크롬층에 유입될 수...
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조사중인 시스템에 적용되는 문제해결 프로세스는 다음의 논리를 기반으로 하는 의사결정 프로세스이다. 상호 배타적인 두가지 조건을 나타내는 변경 대 변경 없음 : 즉 변...
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도금의 특성 및 상구성의 복합체에 대한 이러한 변수의 영향. 일부 경우에는 열처리 효과도 고려 되었다. 결과는 NP-SiC 복합재 생산공정의 최적화에 유용할수 있다.