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최근의 연구의 진보 2. 건식성막
Recent development for research 2 - Dry films

등록 2008.09.20 ⋅ 51회 인용

출처 표면기술, 36주년기념호, 일본어 7 페이지

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.12
CVD PVD 이온 임프란테이션
  • 장식크롬 도금분야에서, 6가크롬 도금의 대체기술로 3가크롬 도금, 드라이크롬 프러스 (싱글셀방식) 의 현황과 일본의 실시예를 보고
  • 로듐 도금은 20세기 초부터 상업적 공정의 기초를 가능하게 했다. 로듐이 알칼리 금속 또는 암모늄과 함께 이중 염화물로부터 석출될 수 있을 뿐만 아니라 황산로듐으로부터...
  • Product selection Guide : me290518_RH_PrdGid.pdf
  • 소프트에칭 Soft Etching PCB 동박의 회로구성에서 후 도금과의 밀착력을 좋게 하기 위한 구리표면의 미소 에칭을 말한다. 조성 과산화수소 (H2O2) 황산 (H2SO4) 안정제 (H2...
  • 니켈도금 및 전기주조 산업에서 운영비용의 상당 부분은 환경, 건강 및 안전규정 준수와 관련이 있다. 업계는 기술적으로 정교한 재활용, 회수 및 재사용 프로그램을 구현하...