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MEMS 응용을 위한 도금장치의 제작 및 특성 연구
Plating device for MEMS apllication and study of specipication

등록 2008.09.24 ⋅ 63회 인용

출처 한국반도체및디스플레이장비학회, 2004년, 한글 7 쪽

분류 연구

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저자

기타

한국반도체 및 디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 논문집

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.07.29
MEMS 응용을 위해 금속막을 형성할수 있는 electroplating 장비를 제작하고, 앞서 언급한 공정변수에 따른 막의 두께 거칠기 등의 특성을 조사
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  • 광택 니켈도금에 사용되는 욕의 주성분의 조성은 수십년간 광택니켈의 일반적인 문제는 보통욕으로 염화암모늄이 사용된 도금욕은 사카린, 나프탈렌 설폰산소다, 에틸렌 시...