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CoNiP 자성박막의 전기석출에 대한 인 재료의 효과
Effect of phosphrous source materials on the electrodeposition of CoNiP magnetic films

등록 2012.07.29 ⋅ 72회 인용

출처 Applied Science, 6권 1호 2006년, 영어

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
MEMS (Micro Electro Mechanical System) 장치의 제조에서 전착은 다른 전착기술을 커버 한다. 코발트-니켈-인 CoNiP 도금은 자기특성을 기반으로 장치에 사용되는 것중 하나이다. CoNiP 도금은 필요한 화학물질이 포함된 전해질에서 전착될수 있다. 이 연구에서 염화암모늄과 두가지 유형의 소스 인화합 물질을 포함하는 도...
  • 일반적으로 사용되는 표준 Cr3+ 전해질에서 전착된 저응력, 크랙프리 Cr 도금을 위한 효과적인 펄스 전류 전착 공정의 설계를 연구하였다. ton, toff 및 듀티 사이클과 같은...
  • 레벨링 (평활작용) ㆍ Leveling 소지의 미세한 요철 (凹凸) 부분이나, 연마에 따라 생성된 거친 굴곡부를 평탄화하는 작용을 말한다. 보통은 도금욕중에 [레벨러]라 불리는 ...
  • 침지 금도금욕 ^ Immersion Gold Plating 보통의 침지의 치환금도금을 말하며 구리, 구리 합금, 니켈 소재 등에 적용되며, 낮은 온도에서는 석출색상이 적흑색으로 되고, 많...
  • 산성용액에는 특히 산세척 산업, 산세척 및 산 석회질 제거를 포함한 세척 공정중 광범위하게 사용되었다. 염산, 황산, 질산, 인산 및 아세트산은 세척 목적으로 사용되는 ...
  • 크롬-탄소 Cr-C 도금층의 물성을 향상시기기 위하여 -CHO, -COOH, CONH2 등의 유기화합물을 도금액에 첨가시켜 Cr-C 합금도금을 하고, 전류밀도, 온도, 첨가량의 공정변...