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무연 및 무카드뮴 도금욕에서 니켈 피막의 특성과 무전해 석출
Electroless Deposition and Characterization of Nickel Coating in Lead- and Cadmium-free Bath

등록 : 2024.01.13 ⋅ 7회 인용

출처 : ELECTROCHEMISTRY, 16권 4호 2010년, 중국어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.01.13
무연 및 무카드뮴욕에서의 무전해 니켈도금 기술이 개발하였다. 자기촉매화에서 니켈 석출 속도가 22.4 ㎛ 임을 보여주었습니다. 이는 도금조 온도와 pH 값의 증가에 따라 증가하였다.