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산성 무전해 니켈-인 도금의 동역학과 메커니즘
Kinetics and Mechanism of Acidic Electroless Ni-P Plating

등록 2024.01.13 ⋅ 55회 인용

출처 Electrochemistry, 20rnjs 6gh 2014sus, 중국어 6 쪽

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.01.13
세 가지 용액 (음극액, 양극액 및 완전 도금 용액) 의 무전해 니켈 도금의 석출 속도에 대한 도금욕의 pH와 시스템 온도의 영향를 측정하였다.
  • 금속 표면 처리에서 먼저 문제가되는 것은 전처리 소위 금속 세척이지만, 각종 처리에 중대한 영향을~~ 탈지촉진제 · 산세용 억제제 · 제청제. 박리제등 예비 산처리와 탈지...
  • 주석의 전해는 일반적으로 Glu 와 β-naphthol의 사용하여 규불산산 (H2SiF6) 욕을 사용한다. 그러나 H2SiF6 의 높은 포화 증기압과 낮은 안정성은 환경 문제를 야기하며 지...
  • 자기디스크 장치의 대용량화 고속화 민생용 자기기록장치의 고성능화에 필요불가결한 부품인 박막헤드에 관하여, 특징 구조 설계제원, 자성막의 구성법, 헤드특성등에 관하...
  • 인산염피막 ^ Phosphating Treatment 인산염처리 피막은 철강 금속 방청에 관한 것으로 1869년 G. Rors 가 제출한 최초의 특허 공업적으로 실용 가능한 처리액은 1906년 영...
  • Green-IC 패키징에 대한 반도체 산업의 수요가 탄력을 받고 있다. 일본에서는 일본 전자 산업 협회 (JEIDA) 가 녹색진행 상황을 모니터링하기 위해 구성되었으며 유럽에서는...