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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 Toshiichi NAKAMURA 1건

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크롬도금욕의 헐셀시험에 있어서 음극의 전처리에 관하여
Pre-treatment of cathode used in Hull Cell Test

등록 : 2009.12.30 ⋅ 39회 인용

출처 : 금속표면기술, 10권 11호 1959년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.09.15
일반적으로 크롬도금욕의 헐셀시험은 음극재질은 구리 도는 황동판을 이용한다. 이때 크롬도금욕중의 화학적 또는 전기화학적으로 복잡한 작용이 일어나, 동일 액중에서도 피복력은 서로 다르게 일어나 판단이 어렵게 된다.
  • 표면처리를 중심으로, 어느정도 완성되어 공업적으로 실용화되고 있는 기술로, 이들의 특징과 사용실적등에 관하여 설명
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  • SFB
    SFB ^ Sodium Formaldehye Bisulphite ≠ [PN] Cas 870-72-4 CH3 Na O4 S = g/㏖ 백색 결정 분말 물에 용해 [니켈도금]용 금속 불순물 억제 참고 [전기도금] [도금첨가제] [...
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