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검색글 Susumu IGAWA 8건
헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
Measurement of Potential and current distriburions in HUll Cell test

등록 2010.01.07 ⋅ 75회 인용

출처 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.15
헐셀판에 프린트 회로용 기판을 이용하여 간단히 전류분포를 측정는 방법의 실험
  • 광택 니켈 도금의 내식성에 대해서는 다수의 보고고가 있지만, 생산 공장에서의 원가 인하를 위해 필요한 최소한의 관리 기준을 위해서는 반드시 과거 보고만으로는 충분하...
  • 각종표면처리의 종류와 기초에 관한 교재 1. 습식표면처리- 도금, 화성처리, 양극산화피막처리, 도장, 라이닝, 표면경화 2. 건식표면처리 - 화학기상증착(CVD), 물리기상증...
  • 향후의 재료 개발에 맞지 않으면 안되고, 기본적으로는 플라스틱에게 순풍이 불고 있다고 생각 되지만, 동시에 회수 및 재활용이라는 과제를 해결하지 않으면 안되는 곳에 ...
  • 고속 크롬도금욕 ^ High Speed Chrome Plating Bath 크롬도금은 기본적으로 전류효율이 낮다. 따라서 장시간 도금해야하는 공업용 경질크롬은 빠른시간내에 도금여 생산성을...
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