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검색글 Yasuo UCHIKOHIKI 1건
헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
Measurement of Potential and current distriburions in HUll Cell test

등록 2010.01.07 ⋅ 60회 인용

출처 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.15
헐셀판에 프린트 회로용 기판을 이용하여 간단히 전류분포를 측정는 방법의 실험
  • 석산소다 ㆍ Sodium Stannate Na2Sn(OH)6 알칼리 주석도금에 사용되는 주석산염으로 xM2O·ySnO2·zH2O (M:1가의 금속) 의 화합물로 산화 주석과 염기성 산화물로 구성되어 있...
  • 현재 문제시되는 경질크롬 도금의 수소취성, 비균일 전착성을 해결하고, 특히 HRC72 라는 초경질 크롬도금 처리방법에 관한 보고
  • 무전해구리 도금욕의 열화의 조사와 장시간 운용시 도금욕에 미치는 영향을, 특히 포름 알데하이드 농도감소를 모니터링 하였다. 증발, 부반응 및 구리도금으로 인해 포름알...
  • 크롬도금조에 염소가 혼입되는 것은 장식크롬도금 과정에서 불가피하다. 본 논문에서는 크롬도금액에서 염소의 거동 뿐만 아니라 크롬산은으로 포화된 질산에 의한 흡광도법...
  • 전자기기의 소형화, 고기능화에 대응하기 위하여 선간 공간의 파인 피치화가 진행되고 있으며, 최근에는 선간 15 μm 이하의 기판도 있다. 이러한 미세피치 기판을 이용한 경...