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전자 부품용 붕소 프리 니켈 도금의 개발
Development of boron free nickel electroplating for electronic components

등록 2025.05.19 ⋅ 10회 인용

출처 산업기술연구보고서, 10호 2015년, 일본어 4 쪽

분류 연구

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저자

기타

電子部品用ホウ素フリーニッケルめっきの開発
東京都立産業技術研究センター研究報告,第10号,2015年

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.05.19
구연산 니켈 도금의 공업적 용도 확대를 도모하고, 그 우수한 피막 물성을 살려 첨가제 없이 전자품용 하지 도금에 적용하는 것을 목적으로 하여 조성 및 피막 물성 등에 대해 검토했다.
  • 팔라듐, 로듐, 루테늄 및 백금을 각각 50, 30, 100 및 65 μIN 의 두께까지 석출할수 있는 만족스러운 침지도금이 개발되었다. 이들 도금은 열수, 수산화암모늄 또는 대체 금...
  • 현재 가장많이 이용되는 시안화 구리도금 및 황산 구리도금의 욕조성과 성분의 작용에 관하여 설명
  • CMP 슬러리의 성분 분석에 대해 소개하고, 무기물이 많은 유기물 분석으로 더 난이도가 높은 구리도금액의 조성분석에 주로 전처리법을 중심으로 소개한다. 1. CMP 슬러...
  • 금속중 최고의 융점을 가지고, 우수한 내마모성을 가진 초경합금의 주성분인 텅스텐을 도금피막의 한성분으로 하여, 내마모성의 향상을 기대하는 텅스텐 합금도금 피막의 형...
  • HAE
    HAE (Harry A. Evangelides) 마그네슘 경질 양극산화 방법중의 하나로 발명가 Harry A. Evangelides 가 1952년에 특허를 받은, 강알칼리성으로 ㏗ 약 14, 온도 21~30 ℃ 에 ...