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액상 석출법에 의해 제막한 금속 산화물을 이용한 유리에의 고밀착 구리 도금
High-Adhesion Copper Plating on Glass Using Metal Oxides Deposited by Liquid Phase Deposition Method

등록 2025.06.04 ⋅ 38회 인용

출처 표면기술, 75권 11호 2024년, 일본어 6 쪽

분류 연구

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液相析出法により製膜した金属酸化物を利用したガラスへの 高密着銅めっき

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.06.04
액상 석출법은 [졸겔]법과 같이 습식법으로 분류되어 표면 처리 기술로 이것에 의해 제막한 중간층 이용함으로써, 유리의 특성을 손상시키지 않고, 실장에 견딜 수 있는 높은 밀착성을 갖고, 스루홀 내벽의 제막성이 양호한 구리 도금 프로세스를 개발하였다.
  • 우수한 특성을 가지고 있는 로듐은 장식은 물론 각종 전기접점, 전자산업 부품, 광학용 장비 및 부식마모 부품 등의 산업등 넓은 용도를 가지고있다. 장식은 광택 색상이 좋...
  • 도금실험에 이용되는 전원장치에 관하여 필요한 본체기능 및 전원외부 제어 소프트에 관하여 설명
  • 크롬산 및 40~100 g/ 의 설포 아세트산으로 구성되고 실질적으로 카복실산, 불화물, 요오드화물, 브로마이드 및 셀레늄 이온이 없는 크롬 도금욕이 기술된다.
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