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검색글 Kazuomi ANDO 4건
펄스도금의 개요
Putline of pulse plating

등록 : 2010.01.13 ⋅ 29회 인용

출처 : 실무표면기술, 35권 2호 1988년, 일어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.27
펄스 도금의 전극 반응의 여러 사건에 대해서는 많은 연구에 의해 밝혀지고 있으며, 일반적 이해도 증진할수 있지만, 실용상은 설정이 어렵다는 직류에 비해 여러 가지 제약으로 인해 큰 진전이 없다. 펄스도금의 기초 전해조건의 설정방법에 관하여 설명하고, 펄스도금과 직류도금과 다른점을 설명
  • 최신의 도금기술로 전기화학의 원리를 응용한 고도의 도금기술에 관한 설명
  • 6가크롬은 환경오염과 인간에게 해를 끼친다. 크롬(vi) 부동태의 독성으로 인해 새로운 비 크롬 부동태 공정의 효과적인 대체방법을 찾고 있다. 옵션으로 실리케이드 (규산...
  • 접점재료로서의 금 Au 전석피막의 특성을 높히고, 비수용액에서의 금 전석을 목적으로, 전기화학적으로 피막구조의 해석과 특성에 관하여 검토
  • 크로메이트 피막의 구성 및 생산 기술, 금속 및 합금의 부식 방지에 적용한 일반적인 예를 요약하였다. 개별 크롬산염 피막은 CrVI 또는 CrIII를 사용한 음이온으로 나누어...
  • 표준 사전트욕을 기본으로한 크롬산 욕액에서 석출된 hcp 형 및 fcc 형 석출물의 전석조건에 관하여 검토하였고, 전류효율, 전착면의 외관 및 격자정수를 조사항고, hcp 형...