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전기도금 실험조
Electroplating Test Cell

등록 2010.06.04 ⋅ 86회 인용

출처 미국특허, USP, 영어 7 쪽

분류 특허

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.21
현재 밀도의 함수로 도금화학을 평가하기 위해 수년 동안 산업산업에 재현 불가능한 질량 전달로 인해 헐셀 Hull Cell은 공정제어를 위해 질적으로 만 사용할수 있다.
  • 니켈-텅스텐-인 무전해 복합도금 Nickel Tungsten Phosphorus Alloy Plating 도금욕조성 |1| 20 NiSO4 6H2O 20 Na2H2PO2 H2O 35 NaCH3COO 30 (NH4)2SO4 35 Na2WO4 2H2O pH 8...
  • 현재 서브트랙티브법으로 제조에 사용되고 있는 전기도금중 황산구리도금납땜도금의 개요에 관하여 설명
  • 흑연복합도금 Carbon Compoite Plating 니켈-카본 복합도금 |1| 45 g L−1 nickel chloride hexahydrate 240 g L−1 nickel sulfate 30 g L−1 boric acid carbon black (Vulca...
  • 광택 아연 프로토룩스 3000 프로세스는 정지욕 (rack) 및 회전욕 (barrel) 용의 광택 아연도금을 위한 시안이 없는 환경친화적인 알칼리 아연도금 프로세스이다. 도금층은 ...
  • AESS ^ Aliphatic amine ethoxylated sulfonate 적갈색 점성의 액상, 물에 용해 순도 : 50 % 강력한 [구리도금광택제|구리도금 광택제] 및 레베링제로 SPㆍMㆍGISSㆍNㆍP 등...