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검색글 Roger Olson 2건
펄스를 이용한 고속도금
High-speed plating using pulses

등록 : 2011.10.10 ⋅ 65회 인용

출처 : 실무표면기술, 25권 10호 1978년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

パルスを利用した高速めっき

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자료요약
카테고리 : 전기도금통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.19
도금액의 분석에 이용되는 헐셀도금에 관하여 그 원리와 도금피막에 대한 영향을 직접도금과 비교하고, 그 고속도금에의 응용에 관하여 소개 [パルスを利用した高速めっき]
  • 부식방지 특성이있는 비용 효율적인 니켈 -구리 -인 Ni-Cu-P-PTFE 복합도금은 박테리아 부착을 최소화하기 위해 자동촉매 도금기술을 개발하였다. 실험결과는 도금에서 PTFE...
  • 작업환경의 개선을 목적으로한 저발연성 프럭스액의 개발을 목적으로, 염화암모늄의 사용은 백연의 발생이 불가피하여, 염화암모늄을 사용하지않는 프럭스액의 개발과 특성...
  • 실험셀 형상과 균일한 전해질은 [인쇄회로]기판(PCB) 및 전자 패키징 응용 분야의 균일한 구리 전착의 기초다. 균일한 전착 두께에 대한 요구 사항을 달성하기 위해 스루홀(...
  • 에텐티오우레아 ^ Ethenthiourea CAS 96-45-7 C3H6N2S = 102.15 g/㏖ 백색 결정 뜨거운 알코올에 용해 산성 [구리도금] 광택제로 MㆍSP 등과 혼합 사용한다. 참고 [구리도금...
  • 3가 크로메이트 피막 ^ Trivalent Chromate Coating Composition & Anti-Corrosion 3가 크롬을 주제로 이용한 아연도금 부동태 피막의 연구에 관하여 설명하였다. 실험에는 ...