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자료요약
카테고리 : 기술자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.02
화학도와 실험실에 필요한 주기율표
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HEDP (1-하이드록실리덴-1,1-디포스폰산)욕 에서 구리 전기도금의 산업응용과 연구를 논의평가하였다. 시안화구리도금욕과 비교하고 도금욕에 관하여 설명하였다.
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낮은 pH 에 의한 금막의 초기석출형태 및 잔결정성등에 관하여, 금막의 전자회절과 전자현미경 직접관찰을 하여 검토한 결과 보고
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알루미늄 제품 화학 광택 솔루션의 원료는 다음과 같이 구성된다. 황산 (Sulfuric acid) 110~166 mL/L; 인산 (Phosphoric acid) 382~466 mL/L; 붕산 (Boric acid) 2~3 g/L; ...
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무전해 코발트 도금 ^ Electorless Cobalt Alloy Plating 무전해 코발트도금|1| 자성 도금용으로 전자산업의 Memory Disk 와 Storage Device에 사용 30 g/l Cobalt Chloride...