도금 첨가제 제조 원료약품 - 반도체 가공처리액의 조성분석

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반도체 가공처리액의 조성분석

na

등록 : 2009.07.04 ⋅ 25회 인용

출처 : 有機分析化学研究部, NA, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

武藤智子¹⁾ 大槻亜紀子²⁾

기타 :

半導体加工処理液の組成分析

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자료요약

카테고리 : 기술자료기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.10.18

CMP 슬러리의 성분분석에 대해 소개하고, 무기물이 많은 유기물 분석으로 더 난이도가 높은 구리 도금액의 조성분석에 주로 전처리법을 중심으로 소개한다.

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