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도금막의 단면구조
Cross-section structure of plating films
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- 분류 : 도금단면 ⋅
자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.20
도금막의 결정 구조는 도금마다 변하고 재현성이 나쁘고 구조 제어가 극히 어렵다고 생각된다. 그러나 저자는 최근 투과형 전자 현미경으로 도금 막의 단면 구조를 관찰 한 결과, 도금 과정에서 다양한 이유로 도금 막의 조성이 변하고 그에 따라 구조가 변화하는 두께가 발생함을 알수있었다. 길이 방향으로 적층구조가 형...
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The Tin/Nickel SNI 2 black process is intended for decorative plating to give a reddish tint to the blackness of its companion process, the tin/cobalt alloy plat...
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다중 스캔모드의 레이저빔을 금속박막에 조사하여, 절연 소재위의 시트 패턴을 형성하고, 형성된 시드패턴위에 선택적 무전해 니켈도금을 이용하여 미세패턴을 제작하는 복...
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Ni-P 무전해도금의 도금속도와 H2PO2-의 분해 속도는 무전해도금의 질량과 P함량을 분석하고 발생된 수소의 부피를 측정하였다. 혼합전위 이론을 바탕으로 다양한 조성의 용...
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알루미늄 Al 기판상의 무전해 니켈 Ni 도금에 있어서 UV 광조사하고, 빛이 Al 상의 Ni 도금에 주는 효과를 밝히는 연구
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공통 요인은 오늘날의 전자산업에서 요구하는 피막 특성의 증가하는 특이성 및 제어 특성을 반영하는 작동변수, 조성변화 및 도금용액 오염의 영향을 받는 피막처리다.