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설파민산 니켈욕에서 고속니켈 전기 도금중 박막 석출에 있어서 내부응력에 대한 염소, 브롬, 요드 이온의 효과
E€ects of chloride, bromide and iodide ions on internal stress in films deposited during high speed nickel electroplating from a nickel sulfamate bath

등록 2012.11.10 ⋅ 56회 인용

출처 Applied Electrochemistry, 30권 2000년, 영어 8 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.12
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