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폭기 염화욕에 있어서 구리 에칭의 모델링
Modelling of copper etching in aerated chloride solutions

등록 : 2012.11.12 ⋅ 18회 인용

출처 : APPLIED ELECTROCHEMISTRY, 28권 1998년, 영어 8 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
반응면의 위치를 예측하기 위해 1차원 수학적 모델을 개발 하였다. 이 모델은 RDE에 의해 생성된 확산, 이동 및 유체 흐름을 설명하고 9 개의 종과 5 개의 이질적인 전기화학 반응을 포함 하였다. 균일한 산화환원 반응은 화학적 에칭용액을 재생시켜 에칭속도를 향상시키는 역할을 한다. 산소 농도와 회전속도가 증가함에 ...
  • 환경 유해 물질로 분류되어 발암성과 인체 침식성을 억제하기 위하여 크롬산을 사용하지 않는 물질로 플라스틱 소재의 표면처리 공정에 적용하고자 강력한 산화제로 분류되...
  • 새로운 분소채약과 그 채약의 특징을 살린 무전해법으로 만든 도체형성 프로세스의 개발
  • 기술의 낙후성 페쇄성 규모의 영세성으로 특정지어지는 국내표면처리공업의 기술 실태를 정확히 분석하므로서 이에 대한 효율적 육성정책수립과 기술지원체제확립 그리고 표...
  • 산화아연 · Zinc Oxide 산화아연 으로 아연화 라고도 부르는 백색분말이다. 도금에서는 징케이트 아연 도금욕, 시안화 아연 도금욕 등에 이용되고 있다. CAS 1314-13-2 분자...
  • 전착에 의한 아연도금은 내식성강판 생산에 활용되었다. 또한 황산염계 욕에서 전착된 아연-철족 Zn-Fe 금속, 아연-망간 Zn-Mn 및 아연-크롬 Zn-Cr과 같은 이원 아연합금은 ...