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폭기 염화욕에 있어서 구리 에칭의 모델링
Modelling of copper etching in aerated chloride solutions

등 록 2012.11.12 ⋅ 20회 인용

출 처 APPLIED ELECTROCHEMISTRY, 28권 1998년, 영어 8 쪽

분 류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
반응면의 위치를 예측하기 위해 1차원 수학적 모델을 개발 하였다. 이 모델은 RDE에 의해 생성된 확산, 이동 및 유체 흐름을 설명하고 9 개의 종과 5 개의 이질적인 전기화학 반응을 포함 하였다. 균일한 산화환원 반응은 화학적 에칭용액을 재생시켜 에칭속도를 향상시키는 역할을 한다. 산소 농도와 회전속도가 증가함에 ...
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