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폭기 염화욕에 있어서 구리 에칭의 모델링
Modelling of copper etching in aerated chloride solutions

등록 2012.11.12 ⋅ 36회 인용

출처 APPLIED ELECTROCHEMISTRY, 28권 1998년, 영어 8 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
반응면의 위치를 예측하기 위해 1차원 수학적 모델을 개발 하였다. 이 모델은 RDE에 의해 생성된 확산, 이동 및 유체 흐름을 설명하고 9 개의 종과 5 개의 이질적인 전기화학 반응을 포함 하였다. 균일한 산화환원 반응은 화학적 에칭용액을 재생시켜 에칭속도를 향상시키는 역할을 한다. 산소 농도와 회전속도가 증가함에 ...
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  • 황산, 과산화수소, 규산염 및 하나의 양이온성 트리아릴메탄 염료로 구성된 무독성 용액으로 처리하여 아연도금 표면과 같은 금속표면에 향상된 색상, 광택 및 내식성을 부...
  • 통신부품용 금도금의 두께에 따른 전기적, 기계적, 환경적 특성에 관해 종합적으로 분석 평가하므로써 국내 통신부품용 금도금의 규격화를 위한 금도금 특성 data base를 확...
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  • 부식 · corrosion 부식 (corrosion) 이란 금속이 어떠한 환경에서 화학적 반응에 의해 손상되는 현상으로 모든 금속과 합금은 특정 환경에서는 내식성이 있지만 또 다른 환...