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무전해도금 방법 및 광 푸로브
NA

등록 : 2008.08.02 ⋅ 41회 인용

출처 : 일본특허, 2004-84013, 일어 10 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.09
사이즈 의존 무전해도금의 선택성을 서브미크론에서 나노미터 오다의 범위까지 제어가 가능하며, 100 nm 이하의 개구부 직경을 선철부선단이 쉽게 형성하는 광 푸로브를 제공 [無電解めっき方法及び光プローブ] 일본특허 特願2002-247395 / 物部 秀二 , 独立行政法人 科学技術振興機構
  • 카드뮴 시안화물 전기도금을 염화아연 전기도금으로 대체할 경우의 환경적, 경제적 영향을 평가했다. 프로세스 대체는 내식성에 대한 고객의 요구 사항을 만족시키는 제품품...
  • 무전해 구리도금욕 조성 ^ Electroless Copper Bath 박막용 무전해 구리도금욕은 촉매핵 상의 구리 피복성으로, 두께용은 구리 소재위의 석출속도나 피막 물성에 적당한 성...
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