로그인

검색

검색글 11122건
무전해도금 방법 및 광 푸로브
NA

등록 2008.08.02 ⋅ 45회 인용

출처 일본특허, 2004-84013, 일어 10 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.09
사이즈 의존 무전해도금의 선택성을 서브미크론에서 나노미터 오다의 범위까지 제어가 가능하며, 100 nm 이하의 개구부 직경을 선철부선단이 쉽게 형성하는 광 푸로브를 제공 [無電解めっき方法及び光プローブ] 일본특허 特願2002-247395 / 物部 秀二 , 独立行政法人 科学技術振興機構
  • 종래의 두께용 백금도금액은 내부응력이 커, 크랙의 발생하기 쉽다. 티타늄소재에 10 μm 이상의 도금이 가능한 공업용의 백금도금 개발의 개요를 설명
  • 접점재료로서의 금 Au 전석피막의 특성을 높히고, 비수용액에서의 금 전석을 목적으로, 전기화학적으로 피막구조의 해석과 특성에 관하여 검토
  • 크로노포텐시오메트리 ^ Chronopotentiometry (CP) 작동 전극의 전류가 주어진 시간 동안 일정한 수준으로 유지되는 정전류 방식이다. 작업 전극 전위와 전류는 시간의 함수...
  • 극간전압 양극과 음극 사이의 전압으로 정류기로부터 공급되는 전압을 말한다. 정류기로부터 도금조까지 전기공급에 있어서 접속 불량 등에 따른 전압 손실(전압강하)이 발...
  • 무전해도금 반응에 있어서 팔라듐의 촉매활성에 관한 기초적인 연구로, EQCM법과 아이크릭 볼탐메트리를 병용함에 따라, 금 전극상에 분산형택가 다른 팔라듐을 석출하여, ...