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EQCM법에 의한 금전극상의 팔라듐의 석출형태의 평가
Evaluation of palladium deposition on au electrode using the EQCM technique
등록
:
2008.08.19
⋅ 32회 인용
출처
:
표면기술
, 48권 11호 1997년, 일어 2 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Naoko ARIIZUMI
1)
Masami SHIBATA
2)
Ngakazu FURUYA
3)
기타
:
자료
:
분류 :
촉매활성
⋅
석출형태
⋅
EQCM
⋅
팔라듐촉매
⋅
목록
무전해 구리도금욕 조성
도금 광택제 만들기
Real Web Magazine
자료요약
카테고리 :
도금자료기타
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.03
무전해도금 반응에 있어서 팔라듐의 촉매활성에 관한 기초적인 연구로, EQCM법과 아이크릭 볼탐메트리를 병용함에 따라, 금 전극상에 분산형택가 다른 팔라듐을 석출하여, 그 석출형태를 원자 오다로 평가한 시험
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