무전해도금법에 의해 수지 미립자에 도금 피막을 형성시킨 도전성 미립자가 전자 부품 실장 분야에서 이용되고 있지만, 도금 처리 공정이 복잡하고 제조 비용도 높고 검토해야할 과제도 많이 남아 있다. 따라서 본 연구에서는 수지와 도금피막의 밀착성 향상을 위한 수지 에칭처리 및 무전해도금 반응 개시를 위한 촉매...
The Tin/Nickel SNI 2 black process is intended for decorative plating to give a reddish tint to the blackness of its companion process, the tin/cobalt alloy plat...