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나노구조/기능 디바이스 형성을 위한 전해/무전해 프로세스
Electrochemical and electroless deposition processes for fabrication of Nano structures and devices

등록 2008.08.02 ⋅ 51회 인용

출처 표면기술, 53권 12호 2002년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.17
나노구조 형성방법으로 전해/무전해 공정의 특징과 실제예를 소개하고, 고밀도 실장기술과 다마신 프로세스, MEMS 관련기술에 관하여 다양한 설명
  • 여러가지 무광택니켈도금욕에 관하여 그 욕조성및 전해조건에 따른 전착응력의 측정
  • 단조 가공된 6:4;황동 제품에 전기 주석도금으로 도금후에 2개월이상 두면 색변하는 원인은 무엇인가요? 1. 표면을 분석하면 초기샘플엔 아연이 1%도 안보이다가 2개월이상 ...
  • 현재 문제시되는 경질크롬 도금의 수소취성, 비균일 전착성을 해결하고, 특히 HRC72 라는 초경질 크롬도금 처리방법에 관한 보고
  • 전석과정 결정화 과정의 in-situ 로서, SPM 을 이용한 형태관찰과 X선회절을 이용한 구조해석에 관하여 종래의 보고를 평가하는 동시에 금후의 전망에 관하여서도 해설
  • 직류전원을 사용한 황산구리도금 단면형태의 프랜트화를 실현한 Cu-Brite RF Process에 관하여 설명