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무전해구리 도금과정에 있어서 석출속도의 변화
Change in deposition rate during the course of electroless copper plating

등록 2008.08.03 ⋅ 51회 인용

출처 표면기술, 42권 7호 1991년, 일본어 2 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
욕성분의 보급없이 무전해구리 도금을 할때, 도금욕의 노화과정을 혼성전위 및 크로즈닷트법에 의한 분극저항의 측정으로 평가
  • 티오황산은 Ag 도금욕에서 전착에 의한 구리위에 은도금을 하였다. 피막의 미세구조, 결정 배향, 입자 크기, 내식성, 내유황성 및 피막의 노화방지 성능을 주사전자 현미경 ...
  • - 흑색이 있는 광택으로 레베링 우수하며, 넓은광택범위와 고전류작업가능 - 우수한 균일전착성으로 저전류 피복 양호 - 안정성이 좋아 액관리가 쉽다 - 크롬피복성이 좋고,...
  • 은경 반응 ^ Silver Mirrol Reaction Tollens 반응 |1|이라 하며 알데히드 환원성 검사에 이용된다. 이를 이용한 [침지도금]으로 질산은 암모니아 용액에 [포도당]을 이용하...
  • 수화봉공 물에 의한 봉공방법으로 팽창에 의하여 봉공처리되며 가장 많이 이용한다. 열수 봉공 가장 간단하고 많이 이용되는 방법으로 산화알루미늄 피막이 그 주위의 물을 ...
  • 적어도 하나의 할로겐화은 착물을 함유하고 은 Ag+ 이온용 환원제를 함유하지 않는 은보다 덜 귀한 금속표면상에, 특히 구리상에서 전하교환 반응에 의해 무전해은 Ag 도금...