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Kazuhisa ISHIBASHI 2건
치환구리막의 생성기구에 관하여
The mechanism of the formation of galvanically substrated Cu-Films
자료
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분류
치환구리 ⋅
자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.09.01
체심입방형 금속상의 화학적 치환으로 석출성장된 면심입방형 금속박에 관하여, 기질과의 결정학적 관련 및 생성기구 및 구조를 조사하기 위하겨, 철면산에 석출성장된 치환구리막에 관한 연구
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전기화학기초
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전기 아연-니켈 Zn-Ni 합금도금층의 부식크랙 기구를 해명하기 위하여, 도금조성과 부식환경의 관점에서 크랙거동을 조사하고, 부식크랙에 대한 가열처리의 영향을 검토...
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순 티타늄 (공업용 순 티타늄, 2 급) 의 0.5~0.7 M 농도의 인산 H3PO4 용액에서 0.3~1.0 A/dm2 의 정전류 밀도변화에 따른 양극산화 거동을 관찰하였다. [변기중 / 의공학회...