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무전해 도금에 의한 비스무스 피막의 형성
Formation of bismuth films by electroless plating

등록 : 2008.08.07 ⋅ 68회 인용

출처 : 표면기술, 44권 2호 1993년, 일본어 6 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.11
환원제로 염화주석(ii), 착화제로 구연산, 니트릴 3삭산 및 EDTA 를 이용한 무전해 비스무스도금
  • 제품은 소량의 방향족 알데하이드, 화학식으로 표시되는 폴리아민 설폰과 함께 첨가된 산화아연 ZnO 및 가성소다 NaOH 의 알칼리 아연도금욕에서 전착에 의해 아연도금된다.
  • 초음파를 이용한 금나노입자의 합성과 폴리마 입자상의 금 나노입자의 집적(금 나노코팅) 및 팔라듐 나노입자의 집적 (팔라듐 나노코팅)에 관하여 설명하였다.
  • 화학치환에 의한 ZnBr2 - EMIB - G 3 성분욕중의 아연 Zn 의 일부를 마그네슘 Mg 로 치환하여 ZnBr2-EMIB-G-Mg2 욕을 만들어, 140 도에 Zn-Mg 합금전석을 시험하고, Zn-Mg ...
  • 초음파의 약 1/1000의 저주파로 진동에 의해 심한 유동을 발생시키어, 세정제를 심하게 교반하고, 진동과 유동을 동시에 만들어, 심한 3차원의 난류교반이 일어나다. 인버터...
  • 클로로프로핀 ^ 3-Chloro Proypne C3H3Cl = g/㏖ CAS : 무색 투명액상 순도 : > 95 % 용도 : [니켈도금] 광택제 합성의 기초재료, [부식억제제], Tarnish Inhibitor 로도 사...