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마이크로범프 형성을 위한 도금기술
Plating Technology for Micro-Bump Formation
자료
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분류
마이크로범프 ⋅
자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.17
멀티미디어 시대에 돌입한 오늘날 이동 통신기기의 수요와 함께 전자기기의 고기능화, 소형경량화가 더욱 요구되고 마이크로 전자기술의 발전이 커지고있다. LSI 칩과 베이스 기판을 전기적으로 연결하는 방법으로 와이어본딩 방식이 사용되어 왔다. 그러나 LSI의 고기능화, 대용량화에 따라 LSI의 단자수의 증가, 전극의 미...
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최근 몇년동안 철강에 아연도금 피막을 생산하는데 많은 발전이 있었고 피막의 내식성을 향상시키기 위한 노력이 수시로 이루어졌다. 아연-철 합금이 그러한 개발중의 ...
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무전해도금 공정에 의한 니켈-인 Ni-P/ 니켈-붕사 Ni-B 이중 도금의 형성 및 경도 평가, 내마모성 및 내식성을 비교하였고, Ni-P/Ni-B 이중 도금조 (산성 차아 인산염 및 알...
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물질 전달속도 상수가 이론적으로 잘 확립된 회전 원판계를 사용하여 원판 회전속도, 온도, 전압의 변화와 음극 전류-전압 분극곡선을 통해 도금속도와 반응기구를 규명
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CVS (Cyclic Voltammetric Stripping)는 전기 도금용액에서 유기첨가제 및 이들의 오염물질을 정량적으로 측정하기 위한 특허받은 분석 기술 이다. 도금액의 첨가제 농도는 ...
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우리는 매일 여러번 접촉하고 있으며 다양한 방식으로 우리의 생활방식을 크게 향상시킨다. 예를 들어 의료 및 전자 산업을 위한 마이크로 부품과 항공기 및 항공 우주 산업...