로그인

검색

검색글 11129건
환원제 침투법에 의한 무전해니켈 피막석출 속도에 있어서 욕조건의 영향
Effects of bath condition on plating rate of electroless Ni films prepared by reducing agent permeation method

등록 2008.08.09 ⋅ 78회 인용

출처 표면기술, 44권 9호 1993년, 일본어 5 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
염화니켈 농도, 환원제 농도 및 도금 온도 등의 욕조건이 니켈 석출속도에 미치는 영향을 조사
  • 크롬 도금의 경우, 크롬산과 함께 소량의 황산염 이온이 필수적입니다. 황산 이온이 없으면 크롬욕은 광택도금을 생성하지 않고 갈색 피막을 생성합니다. 황산염 이온은 100...
  • [LUSTER-ON 310 / Anodic Electrocleaner for Ferrous Metals ] Luster-On 310 is a powdered heavy duty, non-chelated alkaline electrocleaner formulated for the remov...
  • 무전해 니켈은 금속표면처리 산업에서 도금으로 널리 사용된다. 다양한 표면에 균일하게 도금되고 표면처리로 복제하거나 향상시킨다. 경도가 높고 내식성 및 가공성도 우수...
  • 미소 균일 전착성 ^ Microthrowing Power 일정 조건에서 좁은 홀이나 구멍에 충분한 도금이 가능한 능력을 말하며, [레벨링] 과 동일한 의미를 가지나, 레벨링은 광택도금을...
  • 비교적 단순한 부식환경인 아연-니켈 Zn-Ni 합금도금 강판의 부식과정의 검토를 위하여, 염소이온을 함유한 환원에서 대표적인 염화나트륨 NaCl 수용액중의 침지시험을 하고...