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글라스 기판상의 무전해 NiP 도금의 초기 석출거동
Initial deposition behavior of electroless nickel pn glass substrate
등록
:
2008.08.10
⋅ 70회 인용
출처
:
표면기술
, 53권 4호 2002년, 일어 6 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Seiji YAMAMOTO
1)
Katsuhiko TASHIRO
2)
Hideo HONMA
3)
기타
:
자료
:
분류 :
니켈-인
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Innotive 종합카타록
자료요약
카테고리 :
니켈/Ni
| 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.07.22
도금조건 및 도금욕 조성을 여러가지로 변화하여, 글라스 기판상에 있어서
무전해니켈도금
의 초기 석출과정의 반응유도기, 석출속도 및 석출형태에 관한 검토와 보고서
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