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글라스 기판상의 무전해 NiP 도금의 초기 석출거동
Initial deposition behavior of electroless nickel pn glass substrate

등록 2008.08.10 ⋅ 72회 인용

출처 표면기술, 53권 4호 2002년, 일어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.07.22
도금조건 및 도금욕 조성을 여러가지로 변화하여, 글라스 기판상에 있어서 무전해니켈도금의 초기 석출과정의 반응유도기, 석출속도 및 석출형태에 관한 검토와 보고서

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