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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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애노드의 최하부는 캐소드의 위쪽이어야 한다. 그 이유는 음극의 최하부의 물품의 오버 도금에 의한 탄을 방지하는 것뿐만 아니라, 전체의 도금 막 두께 분포를 균일하게 하기 위한 것도 있다. 양과 음극의 길이 차이 는 최소 15~20 cm가 필요하며, 더 중요한 것은 양과 음극 사이의 극간 거리 이며 최...
도금자료기타
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실무표면기술 · 25권 3호 1978년 · Tetsuhiro Aoe ·
참조 36회
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크롬도금의 헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
헐셀판 표면의 전위와 전류밀도를 측정하여 표면형태와의 관계에 관하여 조사
크롬/합금
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금속표면기술 · 30권 1호 1979년 · Susumu IGAWA ·
Yasuo UCHIKOSHIKI
외 ..
참조 26회
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전원파형을 변화시킨 도금에서, 욕조성 전류밀도 온도 액교반등의 제반조건에 따라, 전기도금에 있어서 파형효과에 관하여 역사와 그 실시예에 관하여 설명
설비관련
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실무표면기술 · 30권 12호 1983년 · Nobuyoshi BABA ·
참조 27회
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배럴도금 장치 (2) - 임시 최대전류 밀도와 평균전류 밀도 -
일렉트로닉스 분야에 사용되는 미소부품은 배럴내의 도금약 조성의 변동, 평균전류 밀도의 설계와 도금시간등, 배럴도금 설비에 기인한 작업성의 제약과 관리가 중요한 요인이 된다
설비관련
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표면기술 · 53권 6호 2002년 · Yoshiaki HOSHINO ·
참조 48회
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