단독첨가로서 티아조리닐- 디티오프로판 설폰산 소다를 사용한 구리 전기도금에 의한 스루홀 충진
구리표면에서 티아조리닐 (thiazolinyl) -S- Cu와 소디움 티아조리닐 (sodium thiazolinyl)- 디티오프로판 설포네이트 (dithiopropane sulfonate / SH110) 의 흡착거동은 분자역학 (MD) 시뮬레이션과 원자력현미경 (AFM) 을 사용하여 조사 하였다. SH110 의 전기화학적 거동을 평가하고 SH110 을 스루홀...
구리/합금
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Electrochem. Sci. · 7권 2012년 · Chong Wang ·
Jinqiu Zhang
외 ..
참조 19회
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