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고속도금에 대응하는 헐셀의 특성
Hull Cell for high speed plating

등록 2008.08.25 ⋅ 49회 인용

출처 표면기술, 50권 5호 1999년, 일어 2 쪽

분류 연구

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저자

Wataru YAMAMOTO1) Tuguo IMABAYASHI2) Teruo OUKAWADO3) Tomoyoshi YASUZAWA4) Ihoe SAITO 5) Kazuo TAMURA 6)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.04.18
하나의 시험판으로 첨가제의 과부족, 불순물의 유무등, 욕조성의 변화와 음극전류밀도의 분포 연구등을 보고
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  • 안녕하세요. 와트욕으로 니켈 도금을 하고 있습니다. 철강 소지 위에 세라믹 분말을 분산 시킨 후, 니켈 도금층을 500um 정도 성장시켜 분말의 절반 정도를 고정하는데, 이 ...
  • 강하게 하는 도금조건, 조성, 피막구조등에 관하여 보고하고, 내마모성과 윤할성의 적용등에 관하여 소개
  • 부품내장 프린트 배선판은 입체구현의 한 형태이며, 고밀도 배선의 실현과 전기적·열적 특성, 또한 장치실 접속 신뢰성의 향상을 위한 유망한 기술이다. 본보에서는 부품 내...
  • 아스콜빈산 · Ascorbic acid C6H8O6 = 176.13 g/mol CAS 50-81-7 도금욕의 금속이온 착화제로 사용 참고 WIKI 아스코르브산