로그인

검색

검색글 11135건
반도체 화학세정기술동향

등록 2014.03.12 ⋅ 47회 인용

출처 semipark, 5월 16일 2002년, 한글 13 쪽

분류 해설

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 전후처리통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.20
반도체 제조공정에서 첨단 소자 설계채택과 구리/저유전절연막의 통합이 진행되면서 호환가능한 새로운 세정화학액의 필요
  • 크롬 에칭액의 분석 ^ Chromium Etching Baths Analysis 무수크롬산 [크롬도금액분석] 중의 무수크롬 분석법 참조. 3가크롬 [크롬도금액분석] 중의 3가크롬 분석법 참조. 황...
  • BLC
    BLC (APC 50) ^ Pyridine allyls Sulfonate 순도 : 50 % 광택ㆍ[반광택니켈도금|반광택 니켈도금] 광택제 참고 [니켈도금첨가제|니켈도금 첨가제] [도금첨가제]
  • 광학현미경으로 본 알루미늄 양극산화막의 단면은 투명하고 표면에서 빛의 반사가 거의 없기 때문에 회백색 외관이 관찰된다. 또한 도금막과 달리 가장 바깥층이 초기에...
  • 기재의 부식방지 및 장식 미술적인 효과를 부여할 목적으로한 녹청피막 형성품이 지붕재나 건축 내장재등에 이용되어, 천연녹청에 극히 가까운 결정구조를 가진 고속 녹청 ...
  • 복합도금피막의 발수성을 유지하고 경도를 향상 시킬목적으로, 열처리에 의한 경도와 발수성의 변화에 관한검토