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고전류밀도에서 첨가제에 따른 구리도금의 표면 특성 연구
The effect of additives on the high current density copper electroplating

등록 2014.03.19 ⋅ 30회 인용

출처 Micr. & Pack Soci., 18권 1호 2011년, 한글 5 쪽

분류 연구

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저자

심진용1) 문윤성2) 허기수3) 구연수4) 이재호⁵)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.07.15
첨가제가 구리표면에 미치는 영향을 알아보기 위해 정전압 실험을 사용하여, 레벨러로 사용되는 glue 와 결정립 미세화로 사용되는 티오우레아 thiourea 를 첨가하여 구리표면 성장변화를 관찰하였다.
  • 아연도금의 방식 기구에 관하여 알고 싶습니다.또 아연도금외에 반식성이 좋은 도금은 어쩌한것이 있는지 알려주십시요. 첨부자료를 참조하세요 !!
  • 디메틸아민보란을 환원제로한 니켈-붕소 Ni-B 계 합금피막의 무전해도금 과정에 관하여 광음향적 방법의 적용을 시험
  • 리드프레임에 사용되고 있는 저시안은 Ag 도금액에서 만든 도금피막의 실온에 있어서 경시변화에 관하여, SIM, XDR 등의 측정에 따라 검토
  • 카드뮴 또는 아연과 같은 제품상의 금속표면과 반응하여 산성 크로메이트욕에서 제품상에 형성된 크롬 전환피막은 도금을 pH 11~12 범위의 알칼리욕에 적용함으로써 안...
  • 전해구리 도금방법이 제공되며, 여기서 구리는 소재에 전해도금 되고 전해 구리도금에 공급되는 전해 구리도금 용액은 불용성 양극을 사용하여 더미 전기분해된다. 위에서 ...