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무전해 니켈-텅스텐-인 도금욕과 파막 특성
Electroless Nickel-Tungsten-Phosphorus Plating bath and the deposit properties

등록 : 2010.01.07 ⋅ 64회 인용

출처 : 금속표면기술, 31권 12호 1980년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.08
니켈 텅스텐 인 3원합금계 합금피막에 의한 결정화 진행과 무전해 니켈피막의 가능성에 관한 검토 아래와 같은 표준욕을 건욕하였다 0.027 M NiSO4 6H2O | 0.068 M C3H4(OH)(COONa)3 | 0.227 M (NH2)2SO4 | 조정 M Na2WO4 | 0.066 M NaH2PO2 텅스텐산소다 또는 구연산소다를 변화함에 따라 피막중의 인 함유량을 8.9~2.3 W/o...

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